3nm来临！台积电良率可达80％！三星渣得没法看

三星、台积电已经先后宣布量产3nm工艺，台积电还特意举办了盛大的典礼。

台积电的命名为N3，号称5nm之后的一个全新工艺节点， 可将密度增加70％，同等功耗下性能提升10-15％，同等性能下功耗降低25-30％。

三星的命名为3GAE， 首次引入GAA全环绕栅极晶体管技术 (初期版本)。

据半导体专业人士分析， 台积电N3工艺目前的良品率低则60-70％，高则70-80％，与5nm工艺初期的水平类似。