一台几十亿！台积电、Intel、三星疯抢ASML EUV光刻机

台积电今日（6月17日）在北美技术论坛上公布了新的制程路线图，定于2025年量产2nm工艺，其采用Nanosheet（纳米片电晶体）的微观结构，取代FinFET。

期间，台积电甚至规划了5种3nm制程，包括N3、N3E、N3P、N3S和N3X……

台积电还雄心勃勃地提出，要在2025年前将成熟和专业化制程的产能提高50%，包括兴建更多的晶圆厂。

显然，作为产能提升以及兴建晶圆厂的关键核心设备，EUV光刻机少不了要采购一大批。