据TheElec消息,韩国半导体巨头SK海力士计划在第6代DRAM的生产中使用Inpria下一代金属氧化物光刻胶(MOR)。这是MOR首次应用于DRAM量产工艺。消息人士透露,SK海力士将在其1c DRAM上的五个极紫外(EUV)层之一使用MOR进行绘制。此外,三星电子也将追求类似无机PR材料的应用。
据TheElec消息,韩国半导体巨头SK海力士计划在第6代DRAM的生产中使用Inpria下一代金属氧化物光刻胶(MOR)。这是MOR首次应用于DRAM量产工艺。消息人士透露,SK海力士将在其1c DRAM上的五个极紫外(EUV)层之一使用MOR进行绘制。此外,三星电子也将追求类似无机PR材料的应用。
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