ASML上周已经声明,高端DUV光刻机可以出口,而这也会让他们加快处理相应的订单。
所谓浸没式光刻机,属于193nm(光源)光刻机(分为干式和浸没式),可以被用于16nm至7nm先进制程芯片的制造,但是目前也有被业界广泛应用在45nm及以下的成熟制程当中。
ASML公司官网信息显示,该公司主流的DUV光刻机产品共有三款设备:TWINSCAN NXT:1980Di,TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i,其中2000i和2050i两款是公司在声明所指的产品。
理论上NXT:1980Di依然可以达到7nm,只是步骤更为复杂,成本更高,良率可能也会有损失,晶圆厂用这一台光刻机,大多是生产14nm及以上工艺的芯片,很少去生产14nm以下的工艺,因为良率低,成本高,没什么竞争力。
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