售价25亿的“电老虎” 下代EUV光刻机功耗飙到200万瓦

随着半导体工艺进入7nm以内，EUV光刻机是必不可少的关键设备，全球只有ASML公司能生产，现在NA 0.33孔径的EUV光刻机售价高达1.5亿美元，约合10亿一台，不过下一代会更贵。

光刻机制造芯片的关键指标就是光刻分辨率，其中镜头的NA数值孔径越大越好，现在NA 0.33孔径的EUV光刻机能够量产3nm、2nm工艺，再往后就需要NA 0.55孔径的下一代光刻机，也就是High NA EUV，制造2nm以下的工艺必需。

High NA EUV预计在明年开始出样机给客户，这一次Intel先下手为强，抢购了首批的High NA EUV光刻机，据说单价超过3.4亿美元，约合25亿了。

但High NA EUV的最终价格还不确定，未来可能达到4亿美元，超过28亿人民币了。