全球的EUV光刻机只有荷兰ASML能够生产,日本两大光刻机公司佳能、尼康退出了EUV生产,但日本公司在EUV产业链上依然有很强的积累,EUV光刻胶及EUV晶圆主要是日系厂商控制。
三年前日本为了打压韩国,宣布限制多种先进半导体技术和材料出口给韩国,EUV方面的产品就很敏感,不过韩国公司也在积极研发替代产品, 日前SK财团下属的SK Siltron宣布研发出10nm级第四代(1a)DRAM的抛光晶圆,可用于EUV工艺的内存芯片生产。
SK Siltron是韩国最大、世界第三的硅晶圆公司,旗下产品主要有抛光片及外延片,前者以高精度多晶硅为基础,适用于内存及闪存芯片,后者以高精度单晶硅为基础,适用于逻辑工艺,也就是生产CPU、GPU之类的芯片。
三星及SK海力士的DRAM内存芯片也开始应用EUV工艺, 所需的EUV级硅晶圆之前只有日本两家公司胜高及信越(他们两家是第一、第二大硅晶圆供应商)可以生产 ,三星也要进口日本厂商的产品。
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