在12代、13代酷睿连续使用Intel 7工艺之后,Intel今年下半年还会量产Intel 4工艺,这还是Intel首个EUV工艺,等效台积电“4nm EUV”的这代工艺不仅性能大幅提升21.5%,同时功耗还可以降低40%,有望让x86在能效上击败苹果M2。
Intel前不久在VLSI大会上介绍了Intel的“4nm EUV”工艺,这两天媒体曝出了更多的料, HP高性能库的密度可达1.6晶体管/mm2,是目前Intel 7工艺的2倍,高于台积电的5nm工艺的1.3亿晶体管/mm2,接近台积电3nm的2.08亿晶体管/mm2。
与Intel 7工艺相比, 在同样的功耗下“4nm EUV”工艺频率提升21.5%,功耗降低了40%。
此外,改用EUV光刻机之后,“4nm EUV”工艺良率也高了,生产制造也更简单了,不用多次曝光了,工艺步骤减少了5%,光罩数减少了20%,也不需要多次对齐,这都提高了产能,降低了成本。
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