单价超26亿元 Intel首发新一代EUV光刻机：2025年量产

与台积电、三星相比， Intel 这几年在半导体工艺上落后跟 EUV 工艺量产有关， Intel 之前认为 EUV 不成熟，并不急着上马 EUV 光刻机，结果被台积电三星反超， Intel 会在今年下半年的 Intel 4 工艺上使用 EUV 光刻机。

Intel 在当前的 EUV 光刻工艺上吃亏了，但是接下来他们追赶的步伐可要加快了， Intel 把赌注押在了新一代 High NA EUV 光刻机上， NA 数值孔径从目前的 0.33 提升到 0.55 ，该数字越大， EUV 光刻机的分辨率越高，适合 3nm 以内的先进工艺。

ASML 的新一代 EUV 光刻机型号为 EXE:5200 ， Intel 这次会成为首发用户，抢下了第一台 0.55 NA 的 EUV 光刻机， 而且首批 6 台中 Intel 也占了大头，台积电三星会慢一波。

升级到 NA 0.55 的 EUV 光刻机技术难度也更大，光是价格就翻了一两倍，相比目前 1.4 亿美元一台的价格，新一代 EUV 光刻机的价格要 4 亿美元左右，约合人民币 26 亿元了。