新凯来设备全面量产！光掩模加晶圆检测双双击穿：量检测10%空白要被填了

快科技10月27日消息，据报道， 新凯来近日在2026湾芯展（WESEMIBAY）现场确认其半导体设备已全面进入量产，并在国内多家晶圆厂投入使用，应用覆盖先进逻辑与存储领域。

新凯来此次展出的装备覆盖刻蚀、扩散、薄膜沉积、光学检测、光学量测、物理与X射线量测等环节，形成工艺装备与量检测装备两大产品线。

产品手册中新增两款此前未公开的检测设备： PMI（六盘山）图形掩模缺陷检测， 面向掩模厂与芯片制造厂，用于掩模制造工艺监控、出货检与来料检；

mEBI（井冈山）多电子束晶圆缺陷检测， 面向芯片研发与量产中的纳米级尺寸及电性缺陷检测，集成AI缺陷检测、定位与分类。

量检测环节正是国产设备当前最薄弱的一环。据伯恩斯坦2026年5月报告，2025年中国本土厂商在国内晶圆制造设备市场的整体份额已升至21%，刻蚀与薄膜沉积分别达到31%和27%， 但量检测仅约10%。新凯来从工艺装备向检测设备延伸，直接指向这块最大的空白。

子公司启云方的EDA软件也在同步放量。其去年发布的原理图与PCB设计软件已落地超过100家企业客户，使用工程师人数从2万人增至5万人。

但启云方目前仍集中在板级设计环节，尚未进入芯片级EDA；公司虽已启动初步研究，但未形成明确的产品路线图。

另一条更受关注的产品线来自万里眼。其90GHz超高速实时示波器带宽位居全球第二，已实现商用，交付周期5至8周，华为等企业与科研单位均已采用。

万里眼工作人员在湾芯展现场表示，该产品需求旺盛，已进入多家国内头部客户的研发测试环节，当前产能有点跟不上。