三井化学开始量产光刻薄膜新品 支持阿斯麦新机

日本三井化学宣布将在山口县岩国大竹工厂内设置生产线，计划年产能力为5000张的半导体最尖端光刻机零部件产品。该产品是保护半导体电路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代产品。预计生产线将于2025年12月完工，并可支持荷兰阿斯麦（ASML）推出的下一代光刻机。