【太平洋科技资讯】近日,据韩媒 Business Korea 报道,台积电首席执行官魏哲家撇开了原定于 5 月 23 日举行的“台积电 2024 技术研讨会”,前往荷兰访问位于 Eindhoven 的 ASML 总部,以及访问德国 Ditzingen 的工业激光专业公司 TRUMPF。
魏哲家的这一行动可能与台积电目前正在考虑的未来工艺技术有关。据报道,台积电正考虑为划于 2026 年下半年量产的 1.6 纳米产品 A16 之后的工艺引入 High NA EUV 设备。High NA EUV 是一种高数值孔径的极紫外光刻技术,它将有助于实现更小的芯片尺寸和更高的性能。
而ASML 是全球光刻领域的领先企业,其首席执行官 Christophe Fouquet 在社交媒体上透露了魏哲家的访问,并表示他们向魏总介绍了最新的技术和新产品,包括 High NA EUV 设备将如何实现未来的半导体微处理技术。这表明 ASML 在 High NA EUV 设备方面具有领先的技术和产品,并有可能与台积电建立更紧密的合作关系。
魏哲家也访问了德国的 TRUMPF ,这是一家工业激光专业公司。TRUMPF 首席执行官 Nicola Leibinger-Kammüller 也通过社交媒体透露了魏哲家的行踪,并表示其为半导体行业强大的合作伙伴关系。
台积电的张晓强博士在出席阿姆斯特丹举办的技术研讨会曾直言:“ASML 的 High-NA EUV 太贵了,我非常喜欢 High-NA EUV 的能力,但不喜欢它的价格。”
台积电正在考虑引入 High NA EUV 设备以实现更先进的工艺技术,同时也在寻求降低成本的方法。ASML 和 TRUMPF 作为全球领先的半导体制造企业,与台积电建立了更紧密的合作关系,他们将共同推动半导体产业的发展,为公众提供更强大,更便宜的产品。
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