Intel四年前抢购下一代EUV光刻机：新工艺不落后

        昨天全球最大的光刻机供应商 ASML 发布了 2021 年 Q4 及全年财报，去年营收 186.11 亿欧元，较上一财年增长 33% ，净利润也从 35.54 亿欧元涨至 58.83 亿欧元，全年出货 42 套 EUV 光刻机，比上一年增加 11 套。

        Q4 季度中， ASML 公司还新增了 71 亿欧元的新订单， 其中就有一套 NA 0.55 高数值孔径 EUV 光刻机的销售 ，这是 ASML 下一代光刻机，订购这个光刻机的是 Intel ，据说成本高达 3 亿美元，约合 19 亿元。

         要知道，在当前的 EUV 光刻机销售中，台积电及三星都是大客户，订单量远高于 Intel ， 但在下一代 EUV 光刻机中 Intel 拿到了独占权，有一定的抢先期，早在 2018 年就下第一台。

        在当前 NA 0.33 的 EUV 光刻机中， Intel 动作慢了，被台积电、三星抢先， Intel 的 EUV 工艺芯片量产要到 2023 年的 14 代酷睿 Metor Lake 上。

         在下一代 NA 0.55 的 EUV 光刻工艺中， Intel 不允许同样的错误再次发生，这一次要抢先三星台积电下单，也会抢先量产 20A 及 18A 工艺，首次进入埃米级工艺节点。

        基于此， 4 年来 Intel 实际上已经下单了 6 台 NA 0.55 的 EUV 光刻机， 其中分为两种， Twinscan Exe:5000 系列主要用于工艺研发，产能输出是 185WPH ，每小时生产 185 片晶圆， 2023 年上半年交付。量产型的 NA 0.55 光刻机是 Twinscan Exe:5200 ，产能提升到 200WPH ，每小时 200 片晶圆，预计会在 2024 年下线， Intel 的 20A 工艺正好是在 2024 年量产。

　　【来源：快科技】【作者：宪瑞】