台积电大佬讲述翻身内幕：靠沉浸式光刻崛起

        这几年中，台积电超越了 Intel 、三星等对手，一跃成为半导体制造行业的大哥。但台积电的崛起过程也不是一帆风顺的，因为 20 年前 Intel 等公司如日中天的时候，一度将台积电排除在先进工艺之外。

       前台积电研发副总林本坚日前提到了这段往事，他指出 2002 年左右， Intel 拉拢摩托罗拉、 AMD 等公司成立了 EUV LCC 联盟，一起出钱出力研发 EUV 光刻设备，希望用于未来的 60nm 、 40nm 等工艺。

        当时台积电也希望参与 EUV 联盟，但是被排挤，因为只限于 6 家公司，最终 IBM 抢到最后一个位置，台积电无缘。

        虽然台积电没有加入 EUV 联盟，但是他们转而研究了沉浸式光刻技术（光刻工艺与折射率相关，水中的折射率比空气要高，有利于提高光刻分辨率），最终实现了翻身。

　　【来源：快科技】【作者：宪瑞】