台积电宣布N4P高性能工艺：又是5nm

　　台积电今天宣布了一个新的制程工艺节点“ N4P ”—— 看起来是4nm，但其实是5nm的又一个版本，确切地说是N5、N5P、N4之后的第四个版本、第三个升级版，注重高性能。

　　台积电称， N4P工艺相比最初的N5工艺可提升11％的性能，或者提升22％的能效、6％的晶体管密度，而对比N4可将性能提升6.6％。

　　此外， N4P工艺会重复使用多层遮罩 ，因此可大大降低工艺复杂度，加快晶圆生产速度。

　　台积电称，N4P工艺是为客户5nm工艺平台产品升级准备的，不但可以最大化挖掘投资价值，还可以更快、更高效地升级N5工艺产品。

　　台积电表示， 第一款基于N4P工艺的产品预计2022年下半年流片。

　　台积电此前披露，N3 3nm工艺将在今年内风险性试产，2022年下半年大规模量产，2023年第一季度获得实际收入，N3E 2024年量产， N2 2nm 2025年量产。

　　【来源：快科技】【作者：上方文Q】