英特尔将斥资在大连研发65纳米生产工艺

　　有消息称，英特尔公司近日得到了美国政府的批准允许其设在大连的晶圆工厂采用65纳米生产工艺。

　　英特尔大连工厂的总经理科比·杰斐逊(Kirby Jefferson)称英特尔正斥资25亿美元在大连兴建其晶圆工厂，该工厂的投产日期目前已被定为2010年上半年，并可能采用更为先进的生产工艺。

　　在2007年3月份英特尔宣称将在中国大连投资设厂，该厂也是英特尔在亚洲的第一个芯片生产厂，当时英特尔曾表示该工厂将会于2010年投产并将采用90纳米生产工艺，杰斐逊表示英特尔将会用一年时间考虑到底是用90纳米还是更为先进的65纳米生产工艺。

　　英特尔的大连工厂（Fab 68）已于2007年9月份破土动工，该工厂的占地面积将达到16.3万平方米，其无尘室（clean room）面积为1.5万平方米。