直逼1nm工艺 ASML下一代EUV光刻机延期：至少2025年

　　ASML 公司前两天发布了财报， 全年净销售额 140 亿欧元 ， EUV 光刻机出货 31 台，带来了 45 亿欧元的营收，单价差不多 11.4 亿欧元了。

　　虽然业绩增长很亮眼，但是 ASML 也有隐忧，实际上 EUV 光刻机的出货不及预期的 35 台， 而且他们还宣布了下一代高 NA 的 EUV 光刻机要到 2025-2026 年之间才能规模应用，意味着要延期了。

　　此前信息显示， ASML 下一代 EUV 光刻机最早是 2022 年开始出样，大规模量产是 2024-2025 年间。

　　ASML 的 EUV 光刻机目前主要是 NEX:3400B/C 系列， NA 数值孔径是 0.33 ，下一代 EUV 光刻机是 NEX:5000 系列，可将 NA 提升到了 0.55 ， 意味着光刻机的分辨率提升了 70% 。（注： NA 越高，光刻机精度越高）

　　目前的 EUV 光刻机可以用于制造 7nm 到 3nm 工艺的芯片，下代 EUV 光刻机则是针对 3nm 以下的节点， 2nm 甚至未来的 1nm 工艺都要用到 NA 0.55 的 EUV 光刻机。

　　【来源：快科技】【作者：宪瑞】